美調整對中晶片設備政策 續控高階製程以維持AI優勢
（中央社紐約16日綜合外電報導）根據路透社所見美國國會草案最新版本，一項旨在限制更多晶片製造設備流向中國的法案已被縮減，但持續納入對艾司摩爾（ASML）深紫外光（DUV）浸潤式微影機台的全國性新限制。
總部位於荷蘭的ASML是這項關鍵技術的全球主導供應商，對此拒絕評論。
這項名為「硬體技術多邊協調管制法案」（MATCH Act）4月2日在聯邦眾議院提出，獲得跨黨派支持，目的是彌補對中國銷售晶片製造設備的限制漏洞，並讓美國與日本、荷蘭等國家的政策保持一致。
這項法案在於維持美國在人工智慧（AI）領域的領先地位，而AI可能改變各國之間的權力平衡。
草案由共和黨眾議員鮑加納（Michael Baumgartner）提出，目前正以新版內容取代原始版本。
美國國會正試圖立法，管制對中國出口晶片及晶片製造設備，因為川普政府在更新管制上動作遲緩，並放寬對先進晶片的限制。
4月初版本曾引發美國及海外業界不滿。一位專家形容這項法案如同「失控列車」，不僅企圖迫使盟友配合美國管制，還引入新的全面性國家限制與廣泛的企業限制。製造業者表示，這些限制會導致出口減少、影響銷售。
與4月初版本相比，許多限制已被移除，包括對低溫蝕刻設備的全面性限制，這些設備由美國的科林研發（Lam Research）和日本的東京威力科創（Tokyo Electron）製造。
美國眾議院外交事務委員會計劃22日對此案進行表決，並同時審議十多項與AI、半導體及出口管制相關的法案。
然而，經過調整的法案仍禁止外國企業向中國晶片製造商長鑫存儲、長江存儲及中芯國際提供設備，華府針對的是使用美國技術的設備。
此外，這項法案還要求在受規範設施內維修設備時須取得許可，這對外國企業而言具爭議性，不過申請將不再一律被拒。
自2022年底實施限制以來，美國一直試圖與荷蘭及日本協調晶片設備出口管制，並取得了部分成效，但美國設備製造商認為競爭環境仍不公平。
上述中國晶片製造商未回應置評請求。對於這項法案，中國駐美大使館發言人劉鵬宇表示，中方將密切關注事態發展，並維護自身權益。（編譯：徐睿承）1150417
